Plasma Chemistry And Plasma Processing

SCIE

國際簡稱：PLASMA CHEM PLASMA P 參考譯名：等離子化學和等離子處理

主要研究方向：工程技術-工程：化工非預警期刊審稿周期：較慢,6-12周

《等離子化學和等離子處理》(Plasma Chemistry And Plasma Processing)是一本由Springer US出版的以工程技術-工程：化工為研究特色的國際期刊，發表該領域相關的原創研究文章、評論文章和綜述文章，及時報道該領域相關理論、實踐和應用學科的最新發現，旨在促進該學科領域科學信息的快速交流。該期刊是一本未開放期刊，近三年沒有被列入預警名單。

3區中科院分區
Q2 JCR分區
123 年發文量
2.6 IF影響因子
未開放 是否OA
57 H-index
1981 創刊年份
Quarterly 出版周期
English 出版語言

Publishing original papers on fundamental and applied research in plasma chemistry and plasma processing, the scope of this journal includes processing plasmas ranging from non-thermal plasmas to thermal plasmas, and fundamental plasma studies as well as studies of specific plasma applications. Such applications include but are not limited to plasma catalysis, environmental processing including treatment of liquids and gases, biological applications of plasmas including plasma medicine and agriculture, surface modification and deposition, powder and nanostructure synthesis, energy applications including plasma combustion and reforming, resource recovery, coupling of plasmas and electrochemistry, and plasma etching. Studies of chemical kinetics in plasmas, and the interactions of plasmas with surfaces are also solicited. It is essential that submissions include substantial consideration of the role of the plasma, for example, the relevant plasma chemistry, plasma physics or plasma–surface interactions; manuscripts that consider solely the properties of materials or substances processed using a plasma are not within the journal’s scope.

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Plasma Chemistry And Plasma Processing期刊信息

ISSN：0272-4324
出版語言：English
是否OA：未開放
E-ISSN：1572-8986
出版地區：UNITED STATES
是否預警：否
出版商：Springer US
出版周期：Quarterly
創刊時間：1981
開源占比：0.0935
Gold OA文章占比：14.18%
OA被引用占比：0.0820...
出版國人文章占比：0.18
出版撤稿占比：0
研究類文章占比：95.12%

Plasma Chemistry And Plasma Processing CiteScore評價數據（2024年最新版）

CiteScore

SJR

SNIP

CiteScore 指數

5.9

0.48

0.912

學科類別	分區	排名	百分位
大類：Physics and Astronomy 小類：Condensed Matter Physics	Q1	108 / 434	75%
大類：Physics and Astronomy 小類：Surfaces, Coatings and Films	Q2	34 / 132	74%
大類：Physics and Astronomy 小類：General Chemical Engineering	Q2	79 / 273	71%
大類：Physics and Astronomy 小類：General Chemistry	Q2	119 / 408	70%

名詞解釋：CiteScore 是衡量期刊所發表文獻的平均受引用次數，是在 Scopus 中衡量期刊影響力的另一個指標。當年CiteScore 的計算依據是期刊最近4年（含計算年度）的被引次數除以該期刊近四年發表的文獻數。例如，2022年的 CiteScore 計算方法為：2022年的 CiteScore =2019-2022年收到的對2019-2022年發表的文件的引用數量÷2019-2022年發布的文獻數量注：文獻類型包括：文章、評論、會議論文、書籍章節和數據論文。

Plasma Chemistry And Plasma Processing中科院評價數據

中科院 2023年12月升級版

Top期刊	綜述期刊	大類學科		小類學科
否	否	物理與天體物理	3區	ENGINEERING, CHEMICAL 工程：化工 PHYSICS, APPLIED 物理：應用 PHYSICS, FLUIDS & PLASMAS 物理：流體與等離子體	3區 3區 3區

中科院 2022年12月升級版

Top期刊	綜述期刊	大類學科		小類學科
否	否	工程技術	3區	PHYSICS, FLUIDS & PLASMAS 物理：流體與等離子體 ENGINEERING, CHEMICAL 工程：化工 PHYSICS, APPLIED 物理：應用	2區 3區 3區

中科院 2021年12月舊的升級版

Top期刊	綜述期刊	大類學科		小類學科
否	否	工程技術	3區	ENGINEERING, CHEMICAL 工程：化工 PHYSICS, APPLIED 物理：應用 PHYSICS, FLUIDS & PLASMAS 物理：流體與等離子體	3區 3區 3區

中科院 2021年12月基礎版

Top期刊	綜述期刊	大類學科		小類學科
否	否	工程技術	3區	ENGINEERING, CHEMICAL 工程：化工 PHYSICS, APPLIED 物理：應用 PHYSICS, FLUIDS & PLASMAS 物理：流體與等離子體	4區 3區 2區

中科院 2021年12月升級版

Top期刊	綜述期刊	大類學科		小類學科
否	否	工程技術	3區	ENGINEERING, CHEMICAL 工程：化工 PHYSICS, APPLIED 物理：應用 PHYSICS, FLUIDS & PLASMAS 物理：流體與等離子體	3區 3區 3區

中科院 2020年12月舊的升級版

Top期刊	綜述期刊	大類學科		小類學科
否	否	工程技術	3區	ENGINEERING, CHEMICAL 工程：化工 PHYSICS, APPLIED 物理：應用 PHYSICS, FLUIDS & PLASMAS 物理：流體與等離子體	3區 3區 3區

Plasma Chemistry And Plasma Processing JCR評價數據（2023-2024年最新版）

按JIF指標學科分區	收錄子集	分區	排名	百分位
學科：ENGINEERING, CHEMICAL	SCIE	Q3	91 / 170	46.8%
學科：PHYSICS, APPLIED	SCIE	Q2	81 / 179	55%
學科：PHYSICS, FLUIDS & PLASMAS	SCIE	Q2	12 / 40	71.3%

按JCI指標學科分區	收錄子集	分區	排名	百分位
學科：ENGINEERING, CHEMICAL	SCIE	Q2	55 / 171	68.13%
學科：PHYSICS, APPLIED	SCIE	Q2	69 / 179	61.73%
學科：PHYSICS, FLUIDS & PLASMAS	SCIE	Q2	17 / 40	58.75%

Plasma Chemistry And Plasma Processing歷年數據統計

影響因子

中科院分區

Plasma Chemistry And Plasma Processing中國學者發文選摘

1、Plasma-Catalytic Ammonia Decomposition for Carbon-Free Hydrogen Production Using Low Pressure-Synthesized Mo2N Catalyst
Author: Yu, Xiuxia; Hu, Ke; Zhang, Huazhou; He, Ge; Xia, Yuanhua; Deng, Mao; Shi, Yang; Yang, Chi; Mao, Xinchun; Wang, Zhijun

Journal: PLASMA CHEMISTRY AND PLASMA PROCESSING. 2023; Vol. 43, Issue 1, pp. 183-197. DOI: 10.1007/s11090-022-10282-y
2、Electron Density and Electron Temperature Control with a Magnetic Field and a Grid in Inductively Coupled Argon Plasma
Author: He, Yun-peng; Jin, Wei; Wang, Yi-bo; Lv, Shao-bo; Wang, Rui-sheng; Liu, Jun-qi; Liu, Hai-cheng

Journal: PLASMA CHEMISTRY AND PLASMA PROCESSING. 2023; Vol. 43, Issue 1, pp. 381-400. DOI: 10.1007/s11090-022-10295-7
3、Study on the Anticancer Effects of Plasma-Activated Saline Perfusion Based on a Microfluidic System
Author: Zhang, Jishen; Xu, Shengduo; Jing, Xixi; Liu, Dingxin; Zhang, Hao; Wang, Zifeng; Xu, Dehui; Zhang, Geng; Yang, Xiaojian; Wang, Xiaohua; Kong, Michael G.; Rong, Mingzhe

Journal: PLASMA CHEMISTRY AND PLASMA PROCESSING. 2023; Vol. 43, Issue 1, pp. 99-110. DOI: 10.1007/s11090-022-10297-5
4、A RF plasma source with focused magnetic field for material treatment
Author: Zhang, L. P.; Chang, L.; Yuan, X. G.; Zhang, J. H.; Zhou, H. S.; Luo, G. N.

Journal: PLASMA CHEMISTRY AND PLASMA PROCESSING. 2023; Vol. 43, Issue 1, pp. 329-345. DOI: 10.1007/s11090-022-10300-z
5、Influence Mechanism of O-2/H2O Adsorption on Cu(111) Surface on SF6 Overheating Failure Decomposition
Author: Zeng, Fuping; Kexin Zhu; Su, Dazhi; Feng, Xiaoxuan; Guo, Xinnuo; Yao, Qiang; Tang, Ju

Journal: PLASMA CHEMISTRY AND PLASMA PROCESSING. 2023; Vol. 43, Issue 1, pp. 67-80. DOI: 10.1007/s11090-022-10305-8
6、Synergistic 2,4-D Degradation by Fenton Reagent Obtained from Glow Discharge Plasma Formed H2O2 and DBD Pretreated Fe-Rich Sludge Catalyst
Author: Huang, Shaoyong; Huang, Quanjia; Gan, Jiaming; Li, Ting; Wang, Lei

Journal: PLASMA CHEMISTRY AND PLASMA PROCESSING. 2023; Vol. 43, Issue 2, pp. 491-511. DOI: 10.1007/s11090-022-10306-7
7、Hydrodeoxygenation of o-Cresol Over Mo2C Modified by O-2 Plasma
Author: Yu, Zihan; Yu, Zhiquan; Wang, Yao; Liu, Yingya; Wang, Anjie

Journal: PLASMA CHEMISTRY AND PLASMA PROCESSING. 2023; Vol. 43, Issue 2, pp. 533-545. DOI: 10.1007/s11090-022-10310-x
8、Theoretical Study on the Degradation Pathways of Unsymmetrical Dimethylhydrazine by Aqueous O-3
Author: Luo, Santu; Fu, Yuwei; Zhang, Mingyan; Liu, Yifan; Wang, Diankai; Zhang, Jiawei; Liu, Dingxin; Rong, Mingzhe

Journal: PLASMA CHEMISTRY AND PLASMA PROCESSING. 2023; Vol. 43, Issue 1, pp. 81-97. DOI: 10.1007/s11090-022-10307-6