Journal Of Vacuum Science & Technology A

SCIE

國際簡稱：J VAC SCI TECHNOL A 參考譯名：真空科學(xué)與技術(shù)學(xué)報

主要研究方向：材料科學(xué)：膜-工程技術(shù) 非預(yù)警期刊審稿周期：一般,3-6周

《真空科學(xué)與技術(shù)學(xué)報》(Journal Of Vacuum Science & Technology A)是一本由AVS Science and Technology Society出版的以材料科學(xué)：膜-工程技術(shù)為研究特色的國際期刊，發(fā)表該領(lǐng)域相關(guān)的原創(chuàng)研究文章、評論文章和綜述文章，及時報道該領(lǐng)域相關(guān)理論、實踐和應(yīng)用學(xué)科的最新發(fā)現(xiàn)，旨在促進(jìn)該學(xué)科領(lǐng)域科學(xué)信息的快速交流。該期刊是一本未開放期刊，近三年沒有被列入預(yù)警名單。

3區(qū) 中科院分區(qū)
Q3 JCR分區(qū)
333 年發(fā)文量
2.4 IF影響因子
未開放 是否OA
100 H-index
1983 創(chuàng)刊年份
Bimonthly 出版周期
English 出版語言

Journal of Vacuum Science & Technology A publishes reports of original research, letters, and review articles that focus on fundamental scientific understanding of interfaces, surfaces, plasmas and thin films and on using this understanding to advance the state-of-the-art in various technological applications.

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Journal Of Vacuum Science & Technology A期刊信息

ISSN：0734-2101
出版語言：English
是否OA：未開放
E-ISSN：1520-8559
出版地區(qū)：UNITED STATES
是否預(yù)警：否
出版商：AVS Science and Technology Society
出版周期：Bimonthly
創(chuàng)刊時間：1983
開源占比：0.2737
Gold OA文章占比：27.03%
OA被引用占比：0.2168...
出版國人文章占比：0.03
出版撤稿占比：0
研究類文章占比：97.60%

Journal Of Vacuum Science & Technology A CiteScore評價數(shù)據(jù)（2024年最新版）

CiteScore

SJR

SNIP

CiteScore 指數(shù)

5.1

0.569

0.957

學(xué)科類別	分區(qū)	排名	百分位
大類：Physics and Astronomy 小類：Condensed Matter Physics	Q2	135 / 434	69%
大類：Physics and Astronomy 小類：Surfaces and Interfaces	Q2	19 / 57	67%
大類：Physics and Astronomy 小類：Surfaces, Coatings and Films	Q2	45 / 132	66%

名詞解釋：CiteScore 是衡量期刊所發(fā)表文獻(xiàn)的平均受引用次數(shù)，是在 Scopus 中衡量期刊影響力的另一個指標(biāo)。當(dāng)年CiteScore 的計算依據(jù)是期刊最近4年（含計算年度）的被引次數(shù)除以該期刊近四年發(fā)表的文獻(xiàn)數(shù)。例如，2022年的 CiteScore 計算方法為：2022年的 CiteScore =2019-2022年收到的對2019-2022年發(fā)表的文件的引用數(shù)量÷2019-2022年發(fā)布的文獻(xiàn)數(shù)量注：文獻(xiàn)類型包括：文章、評論、會議論文、書籍章節(jié)和數(shù)據(jù)論文。

Journal Of Vacuum Science & Technology A中科院評價數(shù)據(jù)

中科院 2023年12月升級版

Top期刊	綜述期刊	大類學(xué)科		小類學(xué)科
否	否	材料科學(xué)	3區(qū)	MATERIALS SCIENCE, COATINGS & FILMS 材料科學(xué)：膜 PHYSICS, APPLIED 物理：應(yīng)用	3區(qū) 3區(qū)

中科院 2022年12月升級版

Top期刊	綜述期刊	大類學(xué)科		小類學(xué)科
否	否	材料科學(xué)	2區(qū)	MATERIALS SCIENCE, COATINGS & FILMS 材料科學(xué)：膜 PHYSICS, APPLIED 物理：應(yīng)用	3區(qū) 3區(qū)

中科院 2021年12月舊的升級版

Top期刊	綜述期刊	大類學(xué)科		小類學(xué)科
否	否	材料科學(xué)	3區(qū)	MATERIALS SCIENCE, COATINGS & FILMS 材料科學(xué)：膜 PHYSICS, APPLIED 物理：應(yīng)用	3區(qū) 3區(qū)

中科院 2021年12月基礎(chǔ)版

Top期刊	綜述期刊	大類學(xué)科		小類學(xué)科
否	否	工程技術(shù)	4區(qū)	MATERIALS SCIENCE, COATINGS & FILMS 材料科學(xué)：膜 PHYSICS, APPLIED 物理：應(yīng)用	4區(qū) 4區(qū)

中科院 2021年12月升級版

Top期刊	綜述期刊	大類學(xué)科		小類學(xué)科
否	否	材料科學(xué)	3區(qū)	MATERIALS SCIENCE, COATINGS & FILMS 材料科學(xué)：膜 PHYSICS, APPLIED 物理：應(yīng)用	3區(qū) 3區(qū)

中科院 2020年12月舊的升級版

Top期刊	綜述期刊	大類學(xué)科		小類學(xué)科
否	否	材料科學(xué)	2區(qū)	MATERIALS SCIENCE, COATINGS & FILMS 材料科學(xué)：膜 PHYSICS, APPLIED 物理：應(yīng)用	2區(qū) 3區(qū)

Journal Of Vacuum Science & Technology A JCR評價數(shù)據(jù)（2023-2024年最新版）

按JIF指標(biāo)學(xué)科分區(qū)	收錄子集	分區(qū)	排名	百分位
學(xué)科：MATERIALS SCIENCE, COATINGS & FILMS	SCIE	Q3	13 / 23	45.7%
學(xué)科：PHYSICS, APPLIED	SCIE	Q3	96 / 179	46.6%

按JCI指標(biāo)學(xué)科分區(qū)	收錄子集	分區(qū)	排名	百分位
學(xué)科：MATERIALS SCIENCE, COATINGS & FILMS	SCIE	Q3	12 / 23	50%
學(xué)科：PHYSICS, APPLIED	SCIE	Q2	88 / 179	51.12%

Journal Of Vacuum Science & Technology A歷年數(shù)據(jù)統(tǒng)計

影響因子

中科院分區(qū)

Journal Of Vacuum Science & Technology A中國學(xué)者發(fā)文選摘

1、Selectivity dependence of atomic layer deposited manganese oxide on the precursor ligands on platinum facets
Author: Lan, Yuxiao; Wen, Yanwei; Li, Yicheng; Yang, Jiaqiang; Cao, Kun; Shan, Bin; Chen, Rong

Journal: JOURNAL OF VACUUM SCIENCE & TECHNOLOGY A. 2023; Vol. 41, Issue 1, pp. -. DOI: 10.1116/6.0002173
2、Dynamic character of compositional sputter depth profiling by SIMS: A comparison of different models for quantitative profile evaluation
Author: Hofmann, Siegfried; Zhong, Feng-Min; Yang, Hao; Wang, Jiang-Yong; Xu, Cong-Kang

Journal: JOURNAL OF VACUUM SCIENCE & TECHNOLOGY A. 2023; Vol. 41, Issue 1, pp. -. DOI: 10.1116/6.0002233
3、Aluminum nitride crystal-based photodetector with bias polarity-dependent spectral selectivity
Author: Fan, Zelong; Qin, Zuoyan; Jin, Lei; Cao, Yuan; Yue, Zhongyu; Li, Baikui; Wu, Honglei; Sun, Zhenhua

Journal: JOURNAL OF VACUUM SCIENCE & TECHNOLOGY A. 2023; Vol. 41, Issue 1, pp. -. DOI: 10.1116/5.0133162
4、Effect of plasma nitriding substrate current density on the adhesion strength of in situ PVD TiN coatings
Author: Zhang, Xin; Tian, Xiu-bo; Gong, Chun-zhi; Liu, Xiang-li; Li, Jin

Journal: JOURNAL OF VACUUM SCIENCE & TECHNOLOGY A. 2023; Vol. 41, Issue 3, pp. -. DOI: 10.1116/6.0002353
5、Enhancement of discharge and mechanical properties of ta-C films by pulse-enhanced cathodic arc deposition
Author: Wang, Benfu; Tian, Xiubo; Hu, Jian; Gong, Chunzhi; Liu, Xiangli; Li, Jin

Journal: JOURNAL OF VACUUM SCIENCE & TECHNOLOGY A. 2023; Vol. 41, Issue 3, pp. -. DOI: 10.1116/6.0002352
6、Physical properties of Zn-Sn-N films governed by the Zn/(Zn plus Sn) ratio
Author: Ren, JunYan; Liang, LingYan; Liu, Xiaohan; Cao, Hongtao

Journal: JOURNAL OF VACUUM SCIENCE & TECHNOLOGY A. 2023; Vol. 41, Issue 3, pp. -. DOI: 10.1116/6.0002454
7、Method for extracting the intrinsic diffusion coefficient from grain boundary diffusion depth profile
Author: Lian, Songyou; Fourie, Antonie J.; Wang, Jiangyong; Swart, Hendrik C.; Terblans, Jacobus Johannes

Journal: JOURNAL OF VACUUM SCIENCE & TECHNOLOGY A. 2023; Vol. 41, Issue 3, pp. -. DOI: 10.1116/6.0002400
8、Interface-mediated ferroelectricity in PMN-PT/PZT flexible bilayer via pulsed laser deposition
Author: Chen, Rong; Qi, Zilian; Xiong, Yingfei; Li, Yicheng; Zhang, Xiaodong; Cao, Kun

Journal: JOURNAL OF VACUUM SCIENCE & TECHNOLOGY A. 2023; Vol. 41, Issue 3, pp. -. DOI: 10.1116/6.0002386