Journal Of Micro-nanolithography Mems And Moems

SCIE

國際簡稱：J MICRO-NANOLITH MEM 參考譯名：微納光刻技術(shù)雜志

主要研究方向：ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC-NANOSCIENCE & NANOTECHNOLOGY 非預(yù)警期刊審稿周期：較慢,6-12周

《微納光刻技術(shù)雜志》(Journal Of Micro-nanolithography Mems And Moems)是一本由SPIE出版的以ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC-NANOSCIENCE & NANOTECHNOLOGY為研究特色的國際期刊，發(fā)表該領(lǐng)域相關(guān)的原創(chuàng)研究文章、評(píng)論文章和綜述文章，及時(shí)報(bào)道該領(lǐng)域相關(guān)理論、實(shí)踐和應(yīng)用學(xué)科的最新發(fā)現(xiàn)，旨在促進(jìn)該學(xué)科領(lǐng)域科學(xué)信息的快速交流。該期刊是一本未開放期刊，近三年沒有被列入預(yù)警名單。該期刊享有很高的科學(xué)聲譽(yù)，影響因子不斷增加，發(fā)行量也同樣高。

2區(qū) 中科院分區(qū)
Q3 JCR分區(qū)
0 年發(fā)文量
未開放 是否OA
37 H-index
2007 創(chuàng)刊年份
Quarterly 出版周期
English 出版語言

The Journal of Micro/Nanolithography, MEMS, and MOEMS (JM3) publishes peer-reviewed papers on the science, development, and practice of lithographic, fabrication, packaging, and integration technologies necessary to address the needs of the electronics, microelectromechanical systems, micro-optoelectromechanical systems, and photonics industries.

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Journal Of Micro-nanolithography Mems And Moems期刊信息

ISSN：1932-5150
出版語言：English
是否OA：未開放
E-ISSN：1932-5134
出版地區(qū)：UNITED STATES
是否預(yù)警：否
出版商：SPIE
出版周期：Quarterly
創(chuàng)刊時(shí)間：2007
開源占比：0.0769
Gold OA文章占比：7.69%
OA被引用占比：
出版國人文章占比：0
出版撤稿占比：
研究類文章占比：0.00%

Journal Of Micro-nanolithography Mems And Moems CiteScore評(píng)價(jià)數(shù)據(jù)（2024年最新版）

CiteScore

SJR

SNIP

CiteScore 指數(shù)

3.4

0.393

1.723

學(xué)科類別	分區(qū)	排名	百分位
大類：Engineering 小類：Mechanical Engineering	Q2	299 / 672	55%
大類：Engineering 小類：Electrical and Electronic Engineering	Q2	389 / 797	51%
大類：Engineering 小類：Atomic and Molecular Physics, and Optics	Q3	113 / 224	49%
大類：Engineering 小類：Condensed Matter Physics	Q3	223 / 434	48%
大類：Engineering 小類：Electronic, Optical and Magnetic Materials	Q3	155 / 284	45%

名詞解釋：CiteScore 是衡量期刊所發(fā)表文獻(xiàn)的平均受引用次數(shù)，是在 Scopus 中衡量期刊影響力的另一個(gè)指標(biāo)。當(dāng)年CiteScore 的計(jì)算依據(jù)是期刊最近4年（含計(jì)算年度）的被引次數(shù)除以該期刊近四年發(fā)表的文獻(xiàn)數(shù)。例如，2022年的 CiteScore 計(jì)算方法為：2022年的 CiteScore =2019-2022年收到的對(duì)2019-2022年發(fā)表的文件的引用數(shù)量÷2019-2022年發(fā)布的文獻(xiàn)數(shù)量注：文獻(xiàn)類型包括：文章、評(píng)論、會(huì)議論文、書籍章節(jié)和數(shù)據(jù)論文。

Journal Of Micro-nanolithography Mems And Moems中科院評(píng)價(jià)數(shù)據(jù)

中科院 2023年12月升級(jí)版

Top期刊	綜述期刊	大類學(xué)科		小類學(xué)科
否	否	物理與天體物理	2區(qū)	ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC 工程：電子與電氣 MATERIALS SCIENCE, MULTIDISCIPLINARY 材料科學(xué)：綜合 NANOSCIENCE & NANOTECHNOLOGY 納米科技 OPTICS 光學(xué)	3區(qū) 3區(qū) 3區(qū) 3區(qū)

中科院 2022年12月升級(jí)版

Top期刊	綜述期刊	大類學(xué)科		小類學(xué)科
否	否	物理與天體物理	3區(qū)	ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC 工程：電子與電氣 MATERIALS SCIENCE, MULTIDISCIPLINARY 材料科學(xué)：綜合 NANOSCIENCE & NANOTECHNOLOGY 納米科技 OPTICS 光學(xué)	4區(qū) 4區(qū) 4區(qū) 4區(qū)

中科院 2021年12月舊的升級(jí)版

Top期刊	綜述期刊	大類學(xué)科		小類學(xué)科
否	否	工程技術(shù)	4區(qū)	ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC 工程：電子與電氣 MATERIALS SCIENCE, MULTIDISCIPLINARY 材料科學(xué)：綜合 NANOSCIENCE & NANOTECHNOLOGY 納米科技 OPTICS 光學(xué)	4區(qū) 4區(qū) 4區(qū) 4區(qū)

中科院 2021年12月基礎(chǔ)版

Top期刊	綜述期刊	大類學(xué)科		小類學(xué)科
否	否	工程技術(shù)	4區(qū)	ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC 工程：電子與電氣 MATERIALS SCIENCE, MULTIDISCIPLINARY 材料科學(xué)：綜合 NANOSCIENCE & NANOTECHNOLOGY 納米科技 OPTICS 光學(xué)	4區(qū) 4區(qū) 4區(qū) 4區(qū)

中科院 2021年12月升級(jí)版

Top期刊	綜述期刊	大類學(xué)科		小類學(xué)科
否	否	工程技術(shù)	4區(qū)	ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC 工程：電子與電氣 MATERIALS SCIENCE, MULTIDISCIPLINARY 材料科學(xué)：綜合 NANOSCIENCE & NANOTECHNOLOGY 納米科技 OPTICS 光學(xué)	4區(qū) 4區(qū) 4區(qū) 4區(qū)

中科院 2020年12月舊的升級(jí)版

Top期刊	綜述期刊	大類學(xué)科		小類學(xué)科
否	否	工程技術(shù)	3區(qū)	ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC 工程：電子與電氣 MATERIALS SCIENCE, MULTIDISCIPLINARY 材料科學(xué)：綜合 NANOSCIENCE & NANOTECHNOLOGY 納米科技 OPTICS 光學(xué)	4區(qū) 4區(qū) 4區(qū) 4區(qū)

Journal Of Micro-nanolithography Mems And Moems JCR評(píng)價(jià)數(shù)據(jù)（2023-2024年最新版）

按JIF指標(biāo)學(xué)科分區(qū)	收錄子集	分區(qū)	排名	百分位
學(xué)科：ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC	SCIE	Q3	187 / 275	32.2%
學(xué)科：MATERIALS SCIENCE, MULTIDISCIPLINARY	SCIE	Q3	255 / 342	25.6%
學(xué)科：NANOSCIENCE & NANOTECHNOLOGY	SCIE	Q4	91 / 107	15.4%
學(xué)科：OPTICS	SCIE	Q3	68 / 100	32.5%